掩模制造的英文

• mask making

• "掩"英文翻译    cover; hide
• "模"英文翻译    mould; pattern; matrix
• "制造"英文翻译    make; manufacture; produce
• "掩模制造设备" 英文翻译 :    mask making facilities
• "电子束掩模制造系统" 英文翻译 :    electron beam mask system
• "掩模制作系统" 英文翻译 :    mask making system
• "搭模制造" 英文翻译 :    patternmaking technology
• "翻转(壳模制造)" 英文翻译 :    peel back
• "壳模制造" 英文翻译 :    shell moulding
• "熔模制造" 英文翻译 :    investment
• "小规模制造" 英文翻译 :    small lot manufacture; small-lot manufacture
• "模制瓶制造机" 英文翻译 :    mould bottle making machine
• "计算机辅助掩模制备" 英文翻译 :    camcomputer aided mask preparation; camp; computer aided mask preparation
• "掩模" 英文翻译 :    mask
• "模制" 英文翻译 :    die; forming; molding; mouldings
• "电子束技术制造的掩模" 英文翻译 :    electron beam generated mask
• "铬掩模" 英文翻译 :    chrome mask; chromium mask
• "光掩模" 英文翻译 :    optical mask; photomasking
• "金掩模" 英文翻译 :    gold mask
• "扩掩模" 英文翻译 :    diffusion mask
• "母掩模" 英文翻译 :    master mask
• "无掩模" 英文翻译 :    maskless
• "掩模板" 英文翻译 :    mask plate; mask slice
• "掩模包" 英文翻译 :    mask pack
• "掩模窗" 英文翻译 :    mask hole

• Developing the lithography process models to properly characterize critical dimension ( cd ) variations caused by proximity effects and distortions introduced by patterning tool , reticule , resist exposure , development and etching , they are beneficial to develop a yield - driven layout design tool , the engineers could use it to automate the tasks of advanced mask design , verification and inspection in deep sub - micron semiconductor manufacturing
  建立准确描述由于掩模制造工艺、光刻胶曝光、显影、蚀刻所引起的光学邻近效应和畸变所导致的关键尺寸变化的光刻工艺模型，有助于开发由成品率驱动的版图设计工具，自动地实现深亚微米下半导体制造中先进的掩模设计、验证和检查等任务。