透明电极造句

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通过光学计算和分析，提出了消除lcd透明电极( ito导电膜)阴影的方法。
Oled显示器件经常采用ito膜作为有机发光的出射面和透明电极,要求ito膜可见光透过率、导电性、表面平整度以及功函数都很好。
目前应用广泛的透明导电氧化物薄膜主要有氧化铟锡薄膜( ito ) 、氧化锌铝膜( azo ) 、掺锑氧化锡( ato )等。铟锡氧化物( ito )是制造透明电极的重要材料。
氧化锌( zno )是一种具有六方纤锌矿晶体结构的宽禁带ii - vi族半导体材料,由于其优良的特性,在太阳能电池、紫外探测器、声表面波器件、气敏传感器、透明电极等方面得到了广泛的应用。
传统上， zno薄膜被广泛应用于声表面波器件、体声波器件、气敏传感器、压敏电阻、透明电极、紫外探测器等领域。近年来， zno作为宽禁带半导体光电材料的研究越来越受到人们的重视。
然而,对于柔性oled 、顶发光oled 、有源矩阵oled等器件,必须在低温下沉积ito透明电极。本论文针对oled器件透明电极的要求,对ito膜的低温制备工艺进行了深入的研究。
制备plzt电光薄膜的最佳工艺参数为:衬底温度400 ,溅射功率100w ,氧氩比为1 : 6 ,退火温度为650 ;而制备二氧化锡透明电极的最佳工艺参数为:衬底温度室温、溅射功率200w 、氧氩比为1 : 2 、退火温度为600 。
并以此为基础分别制备了致密、均匀、平整、直径为212mm的plzt和221mm的sno _ 2陶瓷溅射靶材; ( 2 )为克服现有磁控溅射设备的不足,提出了一种新的磁控溅射方案,采用该方案的设备具有:靶材利用率高、镀膜均匀、成膜速度快等特点; ( 3 )运用afm 、 xrd 、 sem以及双光路分光光度计等分析手段对plzt和sno _ 2薄膜的微结构和性能进行研究,找到了制备plzt电光薄膜和sno2透明电极材料的最佳工艺条件。
20世纪90年代以来，显示技术和光通讯技术的迅猛发展和产业化，极大的促进了光电薄膜的发展，同时对光电薄膜提出了更多更高的要求，论文针对太阳能透明电极的要求，对光电薄膜进行了制备和深入的研究。
用透明电极造句挺难的，這是一个万能造句的方法