溅射薄膜造句

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溅射薄膜应变测量技术为我们提供了良好的稳定性和很高的破坏额定压力值。
从溅射薄膜沉积时或退火处理时的薄膜中颗粒的热力学和动力学的角度以及是否存在化学反应对半导体颗粒的形成机理做了进一步的探讨。
为优化溅射工艺参数以用于后续的硅基tini薄膜制备，本文从工艺因素入手，对玻璃基溅射薄膜两个表面的质量差异进行了分析，并给出合理解释。
( 2 )常温下制备的tio _ 2薄膜是无定型的， 300溅射薄膜表面有致密的晶粒，热处理温度升高，晶粒变大，晶相开始转化， 800退火tio _ 2完全转化为金红石结构。
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其他语种

溅射薄膜的英语：thin sputtered film

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