射频溅射造句

用射频溅射法在si衬底上制备立方氮化硼，靶材为hbn ，。工作气体为氩气。
近距离升华法制备的cdte薄膜与射频溅射和真空蒸发相比，具有其独有的特性。
使用射频溅射( rf )系统,靶材为烧结的六角氮化硼( hbn ) ,工作气体为氩气(或氩气和氮气的混合气) ,在硅衬底上沉积氮化硼薄膜。
利用射频溅射镀膜技术在si片上制备了la _ 2o _ 3膜，通过变角xps分析和多层结构的定量计算，测得la _ 2o _ 3与si衬底之间的sio _ 2层厚度为0 . 6nm 。
本论文使用传统的js - 450a射频溅射系统利用两步法（降温降偏压法）沉积立方氮化硼薄膜，分别研究了各工艺参数对立方氮化硼成核和生长的影响。
5实现了氮化硼薄膜的n型掺杂，成功制备出bn型）乃…型）异质结并且首次系统研究了其卜v和cv特性我们用射频溅射法溅射六角氨化硼靶，在工作气体氮和氮中混入s ，沉积氮化硼薄膜，以研究氮化硼薄膜的n型掺杂，并得到bnh型）侣i …型）异质结。
使用rf射频溅射系统,在si衬底上沉积氮化硼薄膜,用离子注入的方法在制备好的bn薄膜中分别注入s和be ,成功的制备了bn / sin - p和bn / sip - p薄膜异质结,用高阻仪测得bn薄膜表面电阻率和bn / si薄膜异质结的i - v曲线,用c - v仪测得bn / si薄膜异质结的c - v曲线。
用射频溅射造句挺难的，這是一个万能造句的方法