光刻胶掩蔽造句

• 光刻胶掩蔽    气体工业名词，蚀刻就是把基片上无光刻胶掩蔽的加工表面如氧化硅膜，金属膜等蚀刻掉，而使有光刻胶掩蔽的区域保存下来，这样便在基片表面得到所需要的成像图形。
• 光刻胶    微透镜阵列的光刻胶热熔制作技术 光刻胶安全灯的评价 我国超净高纯试剂和光刻胶的现状与发展 通过选择合适的涂胶参数，在凹透镜表面上进行了薄光刻胶胶层的均匀涂布。 对准之后，当照射光通过掩模的透明区域时，晶片上对辐射敏感的光刻胶曝光。 本文采用波长为355nm的三倍频nd : yag激光作为曝光光源,对su - 8光刻胶进行光刻研究。 在微电子技术中,通过曝光并显影光刻胶除去芯...
• 光刻胶剥离    注：光刻胶剥离转速通常需要是以每秒20至80转的速度旋转30到60秒才可以。 其后将光刻胶剥离，并对曝光的UBM材料进行刻蚀，对晶片进行再流，形成最终的凸点。 1、TFT?LCD：重点支持彩色滤光片（含彩色光阻）、偏光片（含PVA膜、TAC膜）、液晶材料、驱动IC、湿化学品（主要包括刻蚀液、清洗剂、显影液、光刻胶、光刻胶剥离液）、靶材、背光源（含增亮膜、反射片）等。
• 光刻胶膜    蚀刻的基本要求是，图形边缘整齐，线条清晰，图形变换差小，且对光刻胶膜及其掩蔽保护的表面无损伤和钻蚀。 由于离心力的作用，光刻胶在基片表面均匀地展开，多余的光刻胶被甩掉，获得一定厚度的光刻胶膜，光刻胶的膜厚是由光刻胶的粘度和甩胶的转速来控制。
• 射线光刻胶    射线光刻胶
• 正性光刻胶    正性光刻胶具有很好的对比度，所以生成的图形具有良好的分辨率。 使正性光刻胶树脂发生交联形成一层薄的表面硬壳，增加光刻胶的热稳定性。 公司开发的亚微米正性光刻胶实用分辨率可以达到0.8μm，在一些新产品生产中起到了很好的作用。 从国内相关产业对光刻胶的需求量来看，目前主要还是以紫外光刻胶的用量为主，其中的中小规模（5μm以上技术）及大规模集成电路（5μm、2~3μm、0.8~...
• 正性胶光刻    。在国内首先将正性胶光刻和干法刻蚀等技术用于大规模集成电路的研制，并进行了提高成品率的研究。 在学部委员王守觉、王守武和林兰英先生的指导下，在国内首先研制成功半导体平面型高速开关晶体管；在介质隔离数字集成电路和高阻抗运算放大器线性电路的研制中，解决了许多关键问题；研制成功N沟M OS 4K位动态随机存贮器，在国内首先采用正性胶光刻等技术，使存贮的动态保持时间达到高水平；研制...
• 涂光刻胶    一般旋涂光刻胶的厚度与曝光的光源波长有关（因为不同级别的曝光波长对应不同的光刻胶种类和分辨率）：I-line最厚，约0.7～3μm；KrF的厚度约0.4～0.9μm；ArF的厚度约0.2～0.5μm。 比如：在LCD、OLED生产中，在涂光刻胶、PI胶、定向膜、铬膜、色膜前经过光清洗，可以极大的提高基体表面润湿性，增强基体表面的粘合力；大规模集成电路的密度越来越高，晶格的微...
• 负性光刻胶    作负性光刻胶的助黏性促进剂。 b、负性光刻胶的显影液。 负性光刻胶在曝光区由溶剂引起泡涨；曝光时光刻胶容易与氮气反应而抑制交联。 采用聚乙烯醇月桂酸酯等作为光敏材料,在光的作用下,其分子中的双键被打开，并使链与链之间发生交联，形成一种不溶性的网状结构，而起到抗蚀作用，这是一种典型的负性光刻胶。 ③光交联型，采用聚乙烯醇月桂酸酯等作为光敏材料,在光的作用下,其分子中的双键被打...
• 负型光刻胶    在此基础上发展起来的正型、负型光刻胶的质量水平正在不断提高。 （2）异戊二烯（IP）：主要用途有：①合成高分子化合物系列，包括异戊橡胶、丁基橡胶、负型光刻胶原胶、IP与苯乙烯嵌段共聚体等；②合成萜烯类化合物，制取新激素、维生素E、化妆品角鲨烷、香料等；③生产二氯菊酸乙酯高效、低毒农药杀虫剂。 1961年，中国科学院半导体研究所为研制我国第1块集成电路芯片急需一种半导体光刻工...
• 天然胶的硫化胶    天然胶的硫化胶
• 干胶胶料    在干胶胶料中通常用量为0.1～1份，在胶乳胶料中为0.5～1.0份。
• 松香胶施胶    松香皂为古老的施胶剂，已逐渐被淘汰，强化松香使用广泛，但已逐渐被乳液松香胶施胶剂所取代。
• 点胶滴胶    点胶滴胶主要是用在硅胶，塑胶按键上的，起装饰和保护作用。
• 热熔胶喷胶机    热熔胶喷胶机在鞋材的巾粘合上也是你不可缺少的有力助手。 热熔胶喷胶机可适用于箱盒上下部密封与包装纸包制饮料吸管贴合、镭射纸、包装彩芸纸。 旭腾热熔胶设备有限公司，专业生产热熔胶涂布复合机，热熔胶喷胶机，拥有近十年的热熔胶喷涂设备制造经验。 经过多年的努力研发设计，已推出一系列高品质“欧仕达”牌热熔胶机.PUR热熔胶机,热溶胶封盒机,热熔胶喷胶机,上胶机,过胶机...
• 热熔胶点胶机    东莞市日创自动化设备有限公司是一家专业开发、设计、生产自动化设备制造商，流体控制制成方案解决商，自动化设备包括：全自动点胶机、四轴自动点胶机、COB封胶机、AB胶（双液）自动点胶机、自动灌胶机、自动涂胶机、全自动台式点胶机、智能型台式点胶机、热熔胶点胶机、自动定量点胶器、非标点胶机、锡膏印刷机、SMT周边设备等。
• 热熔胶过胶机    热熔胶过胶机，广泛用于：地毯，地垫，麻将桌布、台球桌布、木板、鞋材等用品的滚涂过胶。 热熔胶过胶机设备是一种环保节能型高科技工业产品，随着现代工业的发展，热熔胶过胶机设备不断应用于国民工业的生产领域，特别是在建材行业具有突出的供需要求。 该公司主要生产线位于世界鞋业总部基地??中国广东省东莞市厚街镇，产品主要包括：制鞋机器(前后帮机、流水线、先进节能型红外线烤箱、鞋面蒸湿机...
• 胶清颗粒胶    性能差等特点，根据生产工艺的不同，可分为胶清烟胶片、胶清绉胶片和胶清颗粒胶等。
• 胶南市胶河经济区    释宝红，男，生于1963年，汉族，本科学历，中学一级教师职称，胶南市胶河经济区中心中学思想品德教师，教龄24年，班主任工作八年。
• 胶胶扰扰    ④胶扰：胶胶扰扰，动乱不安。 ”尧曰：“胶胶扰扰乎！ 出处：《庄子.天道》：“胶胶扰扰乎！ 幻境去来，胶胶扰扰。 《朱子语类》卷一一三：“当官事多胶胶扰扰，奈何？ 明?汪廷讷《狮吼记?住锡》：“蝇利蜗名镇日奔，生恶趣，苦客尘，胶胶扰扰只贪嗔。 自纪元以迄于兹，朝三暮四，变幻靡常，忽焉以为是，忽焉以为非，又忽焉而非者又是，是者又非，胶胶扰扰，...
• 血胶胶黏剂    ①血胶胶黏剂中加入甘油、乙二醇等可以提高胶膜韧性，加入尿素等可稳定pH值，提高耐水性和耐老化性能。 (2)血胶胶黏剂的缺点血胶胶黏剂固化后胶层较硬，易磨损刀具，易受菌类腐蚀，颜色深黑，并有特殊臭味。 (1)血胶的优点血胶胶黏剂的耐水性比豆胶胶黏剂和干酪素胶胶黏剂要好，胶合强度在蛋白质类胶中也是最好的。
• 亚微米光刻    光学和电子学的发展都基于微细加工的两个关键技术：亚微米光刻和各向异性刻蚀技术。 主要研究内容为微光学研究及应用：微光学（包括衍射光学）的相关理论与优化设计方法，微列阵光学元件制作的新方法和新工艺、深浮雕微细结构的成形方法与测试技术；折衍混合光学技术和系统；研究新型折衍混合光学系统设计与优化，研制出高性能，轻量化折衍混合光学系统与整机，并拓宽折衍混合光学成像系统在航天领域的应...
• 光刻    采用新型的多层抗蚀剂结构的电子束光刻来形成图形。 光刻技术应用到集成电路制造中，就是将掩模版的几何图形转移到硅片表面的工艺过程。 纳米计量与原子光刻技术分析 无掩模光刻技术的前景 光刻线条均匀、一致，可以有效控制图形。 光刻技术及其新进展 影响全息光刻图形质量的因素 光刻-从掩膜到圆片转移的过程。 微透镜阵列的光刻胶热熔制作技术 光刻胶安全灯的评价 自动光刻生产线 1光刻：...
• 光刻成像    基于部分相干成像理论和分数傅立叶变换滤波等理论，我们提出了利用分数傅立叶域滤波改善光刻成像质量的波前工程新思想和新方法。 但目前关于厚层抗蚀剂光刻方面的研究，主要局限于实验工艺的改进上，对其图形传递机理的研究做得很少，现有的曝光、显影模型均未考虑厚层抗蚀剂光刻成像的一些特殊属性，一定程度上制约了厚胶光刻术的深入发展和应用。
• 光刻术    近年来，作为制作优质大高宽比微结构的厚层抗蚀剂光刻术以其工艺简单、制作成本低等优点受到国际上广泛重视。 但目前关于厚层抗蚀剂光刻方面的研究，主要局限于实验工艺的改进上，对其图形传递机理的研究做得很少，现有的曝光、显影模型均未考虑厚层抗蚀剂光刻成像的一些特殊属性，一定程度上制约了厚胶光刻术的深入发展和应用。