過酸化ベンゾイル造句

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過酸化ベンゾイルと一緒に多くの漆とマニキュアが見つかった
過酸化ナトリウムとの反応で過酸化ベンゾイルとなる。
過酸化ベンゾイル (Benzoyl Peroxide) の略称。
過酸化ベンゾイルは、塩化ベンゾイルと過酸化ナトリウムから合成される。
ラジカル的臭素化に際しては過酸化ベンゾイル (BPO) などの開始剤と併用される。
過酸化ベンゾイルに対して過敏な人も少数おり、薬傷、かゆみ、剥皮、まれに腫れなどの症状が見られる。
特にメチルエチルケトンペルオキシド(MEKP)や過酸化ベンゾイルは一般的にこの用途で使われている。
過酸化ベンゾイルやアゾビスイソブチロニトリルを開始剤としてラジカル重合によって製造することも可能である。
常温重合開始剤として過酸化ベンゾイル（BPO）と3級アミンを用い、ベンゼンスルフィン酸塩を助触媒として用いる場合もある。
AIBN は、同様にラジカル開始剤として用いられる過酸化ベンゾイル (BPO) よりも、爆発の危険性が低いために安全とされている。
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高分子合成においても過酸化ベンゾイル (BPO) やアゾビスイソブチロニトリル (AIBN) を開始剤とするラジカル重合が行われる。
ラジカル連鎖反応の開始には過酸化ベンゾイルやアゾビスイソブチロニトリルなど熱や光によってラジカルを容易に生成する開始剤を用いることが多い。
現在日本では、一般的に皮膚科で処方されるニキビ治療には外用の局所抗菌剤として、クリンダマイシン、ナジフロキサシンの2種類のほか、過酸化ベンゾイルや抗炎症剤が使われている。
過酸化ベンゾイル (BPO) のような有機過酸化物や、アゾビスイソブチロニトリル (AIBN) のようなアゾ化合物を光もしくは加熱により分解し、2つのラジカルを生じさせる方法（下式を参照）。
一般的に用いられているポリスチレンは過酸化ベンゾイルをイニシエーター（ラジカル開始剤）としてスチレンをラジカル重合して得られるアタクチック構造を持つプラスチックであり、非晶性のポリマーである。
類似化合物には、メチルエチルケトンペルオキシド (MEKPO) などのケトン過酸化物、ヘキサメチレントリペルオキシドジアミン (HMTD) や過酸化ベンゾイル (BPO) などの有機過酸化物がある。
架橋剤のジビニル化合物にはN,N'-メチレンビスアクリルアミド（MBAAm）やエチレングリコールジメタクリレート（EDMA）、開始剤にはアゾビスイソブチロニトリル（AIBN）や過酸化ベンゾイル（BPO）、過硫酸塩などが用いられる。
NBSを用いたアリル位、ベンジル位のブロモ化においてよく用いられる反応条件としては、NBSを無水四塩化炭素に溶解した溶液をラジカル開始剤（アゾビスイソブチロニトリル (AIBN)、過酸化ベンゾイル (BPO) 等）と共に還流するか、光照射する、もしくはその両方を併用することが必要である。