磁性层的造句

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溅射过程中， tbco磁性层的溅射工艺参数如溅射功率、复合靶的组分、溅射气压、溅射时间和cr底层的溅射气压及cr底层厚度对薄膜的矫顽力的大小都有影响，其中溅射功率、靶的组分及膜层厚度对矫顽力的影响较大；从实验结果得出tbco cr薄膜获得最大矫顽力的工艺参数如下： tbco层溅射功率pw = 375w ，溅射气压par = 4mt ，溅射时间t = 3min ； cr底层pw = 250w ，溅射气压par = 4mt ，溅射时间t = 6min 。
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其他语种

磁性层的的英语：magnetospheric

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