硅集成电路造句

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硅集成电路技术及发展趋势
研究利用常规的硅集成电路工艺技术结合电子束光刻，反应离子刻蚀和剥离等技术制备半导体和金属纳米结构，很好地解决了普通光刻与电子束光刻的匹配问题，提高了加工效率，经过多次的工艺实验，摸索出一套制备纳米结构的工艺方法，首次用电子束光刻，反应离子刻蚀和剥离等技术制备出了多种纳米结构(硅量子线、量子点，双量子点和三叉指状的金属栅结构) 。
提出了一种新的方法来减小硅衬底损耗提高集成电感的q值：在硅衬底形成间隔的pn结隔离以阻止涡流减少损耗，这种方法工艺简单且与常规硅集成电路工艺兼容。
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其他语种

硅集成电路的英语：silicon integrated circuit

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