氧化铟锡 造句
液晶显示器用氧化铟锡 透明导电玻璃 氧化铟锡 复合红外低发射率涂料的制备及性能研究郑耀爵, “以离子束溅镀法制备氧化铟锡 薄膜之光学、电学及可靠性质之研究, ”国立成功大学,硕士论文, 2003 。 目前应用广泛的透明导电氧化物薄膜主要有氧化铟锡 薄膜( ito ) 、氧化锌铝膜( azo ) 、掺锑氧化锡( ato )等。铟锡氧化物( ito )是制造透明电极的重要材料。 将薄层氧化铟锡 及其他化合物附置在电极旁，可以改变厚层间的交互作用，并改善电洞及电子的注入效率，因而可以进一步增加萤光oled的整体用电效率。 本课题的研究针对军用电子元器件、部件、武器装备、方舱、通信保密、重要办公室、实验室需要透明同时防电磁波泄露的需求，采取无机/高分子纳米复合技术路线，研制纳米氧化锡、氧化铟锡 /丙烯酸酯类聚合物纳米复合材料。 氧化铟锡 ( ito )是一种高简并的n型半导体，由于具有导电性，可见光高透过率，红外反射性，稳定的化学性，被广泛应用于热反射建筑玻璃、抗静电涂层，太阳能电池，热发射镜，平板显示器和液晶显示屏，传感器，有机光致二级管( oled )等方面，国内外对高质量的ito薄膜的制备和应用进行了深入的研究，但是很少有ito纳米粒子与高分子材料复合的报道。液晶显示器( lcd )的生产属于高新技术产业，其制造技术涉及化学、物理、光学、电子和机械等多学科领域。其生产过程对工艺、设备、材料、环境等诸因素均有十分严格的要求。为解决液晶显示器制造过程中的技术难题，提升制造能力，提高产品技术档次及其附加值，本文着重研究了ito (氧化铟锡 )导电膜的光电特性、 lcd基板自动对位贴合系统、液晶盒的参数优化设计等液晶显示器制造过程中若干关键制造技术。 其中磁控溅射工艺具有沉积速率高均匀性好等优点而成为一种广泛应用的成膜方法。本研究课题分别以氧化铟锡 靶和铟锡合金靶为靶材，采用射频磁控溅射和直流反应磁控溅射工艺在氩气气氛中沉积ito薄膜。靶材中sno _ 2和sn的掺杂重量比例分别为10和7 。 用氧化铟锡 造句挺难的，這是一个万能造句的方法
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