抛光垫造句

• 化学机械抛光中抛光垫作用分析
• 这两步都要用到抛光垫和抛光浆。
• 不能使用粘有灰尘、污垢的抛光垫抛光。
• 积垢太多的抛光垫无法清洗干净时，用及时更换。
• 4.视需要，可以配合高速抛光机加白色抛光垫抛光处理。
• 2.黑胶印：用喷洁保养蜡配合高速抛光机加白色抛光垫抛光处理。
• 辅料：稀释清洗剂、木材修补腻子、抛光垫、专用鬃毛刷、砂架。
• 5、结晶：用专用进口大理石结晶粉，配合抛光垫，对大理石表面结晶处理。
• 5、等到蜡面彻底干燥后，用高速抛光机配合抛光垫匀速的抛光到表面光亮即可。
• 其作用有多种，各种石材切割好安装就位都会采用抛光垫抛光让表面更光亮平整。
• 若有时间允许的话等石材干透后再做结晶，时间不允许的话可选用下面的用抛光垫用结晶粉进行结晶处理。
• 抛光垫转速最高可调至1100转/分钟，比传统的同类产品提高30 % ，对地面压力可以调节，绝对满足您的专业要求。
• 该装置还包括连接至控制臂的至少一个圆柱形调节件，该控制臂构造成将所述至少一个圆柱形调节件施加至抛光垫。
• 一种用于调节制作半导体晶片的CMP装置的抛光垫的装置，该装置包括构造成至少部分地在一抛光垫之上延伸的一控制臂。
• 利用磨盘上加装一个特殊材料抛光垫或抛光布，抛光料在抛光垫或抛光布之间运动，使工件比硬抛光更有超镜子一样的高光洁度。
• 8、地面清理养护：当石材表面结成晶体镜面后，使用吸水机吸掉地面的残留物，水分，最后使用抛光垫抛光，使整个地面完全干燥，光亮如镜，如果局部损坏可以进行局部保养，施工完成可以随时上去行走。
• 7、整体地面养护处理：如果是空隙度大的石材（砂岩、洞石等）要进行大理石防护剂涂刷，12小时后，再用洗地机在地面进行交替完成K2、K3药水转磨，即K2-K3-K2-K3-K2共五遍，再换上白色抛光垫，喷上少量的K1药水，重新抛磨一次，以此增加整个地面的晶面硬度。
• 抛光垫，其包含一主体，所述主体具有：(a)一顶部表面，其包含一具有一第一深度和第一宽度的第一组凹槽；和(b)一底部表面；其包含一具有一第二深度和第二宽度的第二组凹槽，其中所述第一组凹槽和第二组凹槽互连并以使其不对准的方式定向。
• 通过对钽酸锂晶片的化学机械抛光过程的实验研究，通过测量钽酸锂晶片在不同抛光条件下的表面粗糙度和材料去除率，详细分析了抛光垫材料和状态、抛光压力、抛光盘转速、磨料种类及粒度、抛光液组成等几个因素对抛光表面质量和材料去除率的影响规律。
• 抛光垫，其包含一具有一顶部表面(10)和一底部表面的主体，所述顶部表面(10)包含一具有一第一深度和第一宽度的第一组凹槽(12)，所述底部表面包含一具有一第二深度和第二宽度的第二组凹槽(16)，其中所述第一组凹槽(12)与第二组凹槽(16)互连并以使其不对准的方式定向。