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成膜速度造句

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  • 主要研究内容包括: ( 1 ) edt单体合成路线的两种方案,以及具体的制备过程; ( 2 )在玻璃基片上淀积pedt膜层,研究了聚合温度、聚合物状态、聚合改良剂、烘干温度、溶剂含量等工艺及环境条件对pedt材料电导率和成膜速度的影响。
  • 并以此为基础分别制备了致密、均匀、平整、直径为212mm的plzt和221mm的sno _ 2陶瓷溅射靶材; ( 2 )为克服现有磁控溅射设备的不足,提出了一种新的磁控溅射方案,采用该方案的设备具有:靶材利用率高、镀膜均匀、成膜速度快等特点; ( 3 )运用afm 、 xrd 、 sem以及双光路分光光度计等分析手段对plzt和sno _ 2薄膜的微结构和性能进行研究,找到了制备plzt电光薄膜和sno2透明电极材料的最佳工艺条件。
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