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射靶造句

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  • 磁控溅射靶源设计及溅射工艺研究
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  • 电子薄膜用高纯度钛溅射靶机的标准规范
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  • -主要从事光电晶体系列材料溅射靶材的制备和光学元器件研发与生产。
  • 在镀膜过程中,保证了每个磁控溅射靶上电流的稳定控制和精确调整。
  • 在常用的治疗设备中,直线加速器主要是利用电子线和x射线照射靶区来达到治病的目的。
  • 根据理论计算结果,对液体微滴喷射靶激光等离子体光源的工作物质、激光打靶条件、光源结构参数进行了优化。
  • 液体微滴喷射靶激光等离子体( lpp )光源是一种具有较高的软x射线转换效率且能够长期连续运行的低碎屑光源。
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  • 其次,利用低温制冷技术研制出一台可连续控温的液体微滴喷射靶lpp光源。光源具有连续和脉冲喷射两种工作模式,能使用多种气?液相变温度高于液氮温度的非腐蚀性气体工作。
  • 在实验上,建成了一套高光谱分辨率和高灵敏度的软x射线脉冲辐射测量装置。测量了co _ 2 、 o _ 2 、 cf _ 4 、 kr和xe液体微滴喷射靶lpp光源在6 20nm波段的软x射线辐射光谱。
  • 并以此为基础分别制备了致密、均匀、平整、直径为212mm的plzt和221mm的sno _ 2陶瓷溅射靶材; ( 2 )为克服现有磁控溅射设备的不足,提出了一种新的磁控溅射方案,采用该方案的设备具有:靶材利用率高、镀膜均匀、成膜速度快等特点; ( 3 )运用afm 、 xrd 、 sem以及双光路分光光度计等分析手段对plzt和sno _ 2薄膜的微结构和性能进行研究,找到了制备plzt电光薄膜和sno2透明电极材料的最佳工艺条件。
  • 最后,用低碎屑液体微滴喷射靶lpp光源代替污染严重的金属靶lpp光源,改建了一台波段范围8 30nm的软x射线反射率计,并对软x射线多层膜的反射率进行了大量测量,反射率测量重复性达到2 。
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