图形转移造句

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刻蚀工艺的分辨率是图形转移保真度的量度。
光刻技术应用到集成电路制造中，就是将掩模版的几何图形转移到硅片表面的工艺过程。
“图形转移”是指把掩膜层所确定的图形通过能产生表面转移的化学或物理方法转移到薄膜上或衬底上去。
本文采用p型单晶硅片，由热氧化形成sio _ 2掩膜层，标准光刻工艺进行图形转移，用koh溶液湿法刻蚀制作倒四棱锥腐蚀坑列阵。
用图形转移造句挺难的，這是一个万能造句的方法

其他语种

图形转移的英语：imaging transfer

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