ポストベーク造句

"ポストベーク"是什么意思

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露光後の基板を１００℃のホットプレートで５分間ポストベークした後，現像液に浸して未露光部分のＳＵ?８が除去されるまで現像を行った。
把曝光后的基板利在１００℃的加热板进行５分钟后烘后，进行显影，直至浸泡在显影液中的未曝光部分ＳＵ－８被去除。
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