化学机械造句

例句与造句

1. 化学机械抛光中抛光垫作用分析
2. 多层互连中的化学机械抛光工艺
3. 化学机械抛光
4. 半导体化学机械研磨垫钻石修整轮cmp dresser
5. 铁氰化钾化学机械抛光液中的腐蚀与钝化
6. 用化学机械造句挺难的，这是一个万能造句的方法
7. 化学机械方法制浆
8. 化学机械加工
9. 化学机械浆
10. 基于单分子层去除机理的芯片化学机械抛光材料去除模型
11. 用于化学浆、半化学机械浆、冷浸法高得率浆及纤维板料的研磨。
12. 其次,设计包含低压淀积氮化硅和化学机械抛光( cmp )等关键步骤的新的soi介质隔离工艺流程。
13. 适合钽酸锂晶片化学机械抛光的抛光盘转速为n _ p = 60rpm ，工件盘中心到抛光盘中心的距离为e = 100mm 。
14. 圆平动研抛( circularlytranslational - movingpolishing , ctp )是一种新型的化学机械抛光方式。 ctp能实现抛光所需要的最佳运动学条件,所以能得到比传统的cmp更好的加工效果。
15. 集成电路( ic )制造工业中,化学机械抛光( chemicalmechanicalpolishing , cmp )广泛应用于计算机硬盘片、硅晶片超光滑无损伤表面的加工。
16. 采用了机械抛光代替了手工抛光，解决了手工抛光造成的表面不均匀以及表面损伤层过厚的问题，并比较了机械抛光与化学机械抛光，初步摸索了合适的化学机械抛光工艺。
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