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フォトマスク中文是什么意思

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用"フォトマスク"造句"フォトマスク"中国語の意味

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  • 光掩模

例句与用法

  • 2cm×2cmに切断したガラス基板にフォトレジストを塗布し,このフォトマスクを重ねて露光した。
    在裁切为2cm×2cm的玻璃基板上涂抹光致抗蚀剂,叠放上述光掩膜后进行曝光。
  • (1)まずSOI層表面にフォトマスクを用いてシャッター形状にパターニングし,エッチングによりシャッター形状を形成する。
    (1)首先利用光掩膜在SOI层表面形成快门形状的图案,通过蚀刻形成快门形状。
  • 以上の方法で作成したパターンをOHPフィルムに印刷し,エマルジョンガラスに縮小転写(1/5)し,フォトマスクを作成した。
    我们把利用以上方法制作的图案印刷到OHP薄膜上,在乳胶玻璃上进行缩印(1/5),制成光掩膜。
  • 側面に転写するパターンも1枚のフォトマスクに収めることが可能であり,図2(b)にマスクパターンが各面に転写される関係を模式的に示す。
    复制至侧面的图案也能够被纳入1张光掩膜,因此,图2(b)模式化地显示了掩膜图案复制至各面的关系。
  • 一方,実際の電極の20倍の大きさで原図を描き,それをガラス乾板上に1/20倍で写真撮影し,Fig.1のようなフォトマスクを作製した。
    另外,以实际电极20倍的大小绘制原图,将其以1/20倍的比例照相拍摄到玻璃干板上,制作了如Fig.1所示的光掩膜。
  • 図2(a)のように,フォトマスク上に22.5°斜面のミラーを置くことでUV光を45°で入射させ,試料の上面(マスクとの接触面)と両側面の計3面に対し同時に露光を行なった。
    如图2(a)所示,研究人员通过在光掩膜上放置22.5°斜面的反射镜,使UV光从45°入射,同时对试料上表面(与掩膜接触的面)和两个侧面共3个面同时进行了曝光。
用"フォトマスク"造句  

其他语种

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