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イオン化温度中文是什么意思

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用"イオン化温度"造句"イオン化温度"中国語の意味

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  • 电离温度

例句与用法

  • 電子密度2.6×10^{15}cm?3のアルゴンICP及び4.2×10^{13}cm?3のヘリウムICPのイオン化温度を同様の方法で算出すると,アルゴンICPでは約8400K,ヘリウムICPでは約9500Kとなる。
    电子密度2.6×10^{15}cm-3的氩ICP和4.2×10^{13}cm-3的氦ICP的电离温度如果用同样的方法计算,氩的ICP约8400K、氦ICP为9500K。
  • これらの電子密度よりLTE(local thermodynamic equilibrium,局所熱平衡状態)を仮定してSahaの平衡式からマイクロプラズマのイオン化温度を計算すると,アルゴンでは約7300K,ヘリウムでは約10600Kとなった。
    由这些电子密度假定LTE(local thermodynamic equilibrium,局部热平衡状态),若由Saha的平衡式计算微等离子体的电离温度,氩为7300K、氦为10600K。
  • 励起温度とイオン化温度の差を比較すると,アルゴンICPでは1400Kであるのに対し,アルゴンマイクロプラズマでは約4000K,ヘリウムマイクロプラズマでは約8000Kであることから,マイクロプラズマはICPよりもLTEから離れた状態にあると推定できる。
    如果比较激发温度和电离温度的差异,尽管氩ICP为1400K,而由于存在氩微等离子体约为4000K、氦微等离子体约为8000K的情况,由此可以推断微等离子体为比ICP更远离LTE的状态。
用"イオン化温度"造句  

其他语种

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