英和的日文

• グレイスケールリソグラフィ技術でマイクロレンズ等の微小光学部品を作る場合，石英またはガラス基板にポジレジストで３次元構造を製作した後，リアクティブイオンエッチング等で石英やガラスに形状を転写する手法が一般的であるが，石英やガラスのエッチングレートが遅いため１０μｍ以上の高さの３次元構造の製作は困難であった。
  在利用灰度光刻技术制作微透镜等微小光学部件时，一般采用的是在使用正型光刻胶在石英或玻璃基板上制作三维结构后，通过反应性离子刻蚀等技术把形状复制到石英和玻璃上的方法，但是由于石英和玻璃的蚀刻速度的影响，难以制作１０μｍ以上的高精度三维结构。
• グレイスケールリソグラフィ技術でマイクロレンズ等の微小光学部品を作る場合，石英またはガラス基板にポジレジストで３次元構造を製作した後，リアクティブイオンエッチング等で石英やガラスに形状を転写する手法が一般的であるが，石英やガラスのエッチングレートが遅いため１０μｍ以上の高さの３次元構造の製作は困難であった。
  在利用灰度光刻技术制作微透镜等微小光学部件时，一般采用的是在使用正型光刻胶在石英或玻璃基板上制作三维结构后，通过反应性离子刻蚀等技术把形状复制到石英和玻璃上的方法，但是由于石英和玻璃的蚀刻速度的影响，难以制作１０μｍ以上的高精度三维结构。