三氯氢硅造句

• 2、《三氯氢硅法制取半导体超纯硅的研究》，1963年在全国半导体材料会议上学术交流。
• 对硅中微量杂质又经过一段时间的探索后，氢还原三氯氢硅法成为一种主要的方法。
• （4）净化后的三氯氢硅采用高温还原工艺，以高纯的SiHCl3在H2气氛中还原沉积而生成多晶硅。
• 三氯氢硅的沸点较低，需在低温下储存，三氯氢硅的贮罐设置低温保护装置和降温措施。
• 在进行三氯氢硅的氢还原时，用硅芯代替易造成污染的钼丝或钽管作为发热体沉积超纯硅。
• 把工业硅粉碎并用无水氯化氢(HCl)与之反应在一个流化床反应器中，生成拟溶解的三氯氢硅(SiHCl3)。
• 经过氯化处理后形成一种氯化物，如四氯化硅（SiCl4）或三氯氢硅（SiHCl3），这两种化合物在室温下是液体。
• 项目主要采用高纯度三氯氢硅+氢气??多晶硅+氯化氢的方法,而制取多晶硅的主要工艺设备是CVD装置。
• 利用四氯化硅生产三氯氢硅从技术路线上看，氯氢化(又称冷氢化)技术比热氢化技术更为理想和先进。
• 如果是贮罐发生泄漏，又不能及时排除泄漏，就应该将发生泄漏的贮罐内的三氯氢硅用氮气压入备用罐内。
• 2007年2月10日，乐山永祥硅业有限公司一期工程试车成功，装置达到年产5000吨三氯氢硅的能力，产品精度高达99.45%。
• 1959年，据当时文献报道：多晶硅的制造方法有两种，即四氯化硅锌还原的杜邦法和三氯氢硅氢还原的西门子法。
• 生产的西门子工艺，其原理就是在1100℃左右的高纯硅芯上用高纯氢还原高纯三氯氢硅，生成多晶硅沉积在硅芯上。
• 在实现了还原炉硅棒电流自动控制后，在该院制成国内第一套符合工业生产要求、附属设备齐全的三氯氢硅氢还原炉。
• 其中具有世界先进水平的关键技术:三氯氢硅精馏、大型节能还原炉、四氯化硅氢化、还原尾气干法回收等配套工艺技术。
• 主要著述有：《FZ115型区熔炉的设计及特点》、《五槽银电解槽的设计与实践》、《浅谈三氯氢硅精馏提纯塔的几个问题》等。
• 由于贮存三氯氢硅的容器为常压容器，应针对不同的泄漏部位采取不同的堵漏措施，切断泄漏源，用砂土、水泥吸收残留液。
• 三氯氢硅是光伏产业链前段的一种关键化学原料，使用化学沉积方法制备高纯的多晶硅材料，得到晶体面无序排列的多晶硅。
• 由于杜邦法简单易行，建立了试验车间，后因受锌的纯度所限，该法未能成功，而用三氯氢硅氢还原获得成功，一直沿用至今。
• 为了去除硼、磷杂质，进一步提高多晶硅的纯度，针对该厂所用原料三氯氢硅纯度低、含铁量高的特点，采用氧化铝吸附法除铁。

• 三氯氢硅的英语：trichlorosilane
• 三氯氢硅的法语：Trichlorosilane
• 三氯氢硅的俄语：Трихлорсилан